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三氯化硼
| 标识 | 中文名： | 三氯化硼 | ||
| 英文名： | Boron trichloride | |||
| CAS号： | 10294-34-5 | 简称/别名 | BCl3； | |
| 结构式： |  |
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| 分子式： | BCl3 | 分子量 | 117.17 | |
| HS编码： | 2812191090 | UN编号： | 1741 | |
| 理化性质 | 外观与性状： | 无色发烟液体或气体 | ||
| 主要用途： | 主要用于电子工业硅半导体器件和集成电路生产所用的扩散、离子注入、干法蚀刻等工艺等。 | |||
| 含量 | ≥99.9% | 四氯化硅 | 1000ppm max | |
| 相对密度(水=1)： | 1.392 | 闪点(℃)： | 41℃ | |
| 熔点： | 87-90°C | 沸点： | 105-107°C | |
| 危险性类别： | 3 | 、 | 、 | |
| 包装与运输 | 包装类别： | Ⅲ | 包装： | 10L国际压力钢瓶 |
| 储运注意事项： | 本品储存于阴凉干燥，并与其他化学品分储存。 | |||
| 状态 | 工业化 | |||
三氯化硼指标
| 项 目 | 指 标 值 | |||
| 外 观 | 无色发烟液体或气体 | |||
| 含量 | ≥99.9% | |||
| 铁、铜、锌、铬、镍 | ≤1ppm | |||
| 四氯化硅 | ≤1000ppm | |||
产品介绍
产品用途
(1)高纯三氯化硼主要用于（硅）半导体器件制造工艺中的扩散掺杂（在高温下，经过分解生成硼杂质向硅中扩散，形成P型半导体）、离子注入（作为离子注入源，高能量作用下使硼原子离子化，产生硼离子束并注入硅形成P型浅结）、干法蚀刻（用于Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、Wsi等材料的蚀刻）等过程；
(2)可作为许多有机反应中的优良催化剂（如苯乙烯聚合反应中建议使用，可提高产量及效率）及医药工业的中间体；
(3)用于制备有机硼化合物的基础材料：乙硼烷；硼酸酯等；
用于制备无机硼化合物材料：硼纤维、BN纤维先驱体、BN坩锅等；
用于制备硼化物粉末：高纯硼粉（无定型及结晶型）、BN、BC4、TiB2超细粉；
用于CVD涂层及镀膜工艺：涂覆B、BC4、BN、TiB2等保护涂层及膜；
用作光导纤维的基础材料；
此外还可用于制造太阳能电池元件等工艺过程中；
环氧树脂固化剂；
碳纤维石墨化的渗硼工艺。
(4)还可用于金属冶炼如铝、镁、锌、铜合金的提纯过程（可脱除熔融金属中的氮化物、碳化物和氧化物。用三氯化硼气体处理熔化的铝，可使铝铸件的性能得到改善。）
(5)用作铝、铁、锌、锰、钨、蒙乃尔等合金的焊剂。
(6)用于扑灭热处理炉中的Mg火。
(7)高能燃料及火箭推进剂中，三氯化硼作为硼源以提高BTU值。